Reflexionszonenplatten für nichtlineare Optik und Kurzzeitspektroskopie

Gegenstand der Ausschreibung ist die Beschaffung von Reflexionszonenplatten (RZPs), die auf einem gebogenen Substrat angebracht sind. Diese RZPs sind speziell für den Einsatz in einem breitbandigen XUV-/Soft-Röntgen-Spektrometer konzipiert, das im Photonenenergiebereich von 120 bis 800 eV arbeitet. Die RZPs sollen eine Photonenergie-Dispersion ermöglichen und sind für höchste Effizienz und spektrale Auflösung bei bestimmten Designenergien optimiert. Das Spektrometer, für das die RZPs bestimmt sind, weist eine spezifische Geometrie auf: Der Abstand zwischen Quelle und RZP beträgt 1000 mm, ebenso der Abstand zwischen RZP und Detektor. Die Quellengröße variiert je nach Energiebereich (80 µm FWHM bei 120 - 550 eV und 20 µm FWHM bei 550 - 800 eV), und die Quelldivergenz beträgt 1 mrad (FWHM). Die RZPs sollen in einem Array auf einem einzigen gebogenen Substrat angeordnet sein, um den gesamten Energiebereich abzudecken. Die Designenergien, bei denen die RZPs optimiert sein sollen, sind 150 eV, 250 eV, 450 eV und 700 eV. Dabei sollen spezifische spektrale Auflösungen (E/#E) und Effizienzen erreicht werden: Bei 150 eV eine Auflösung von # 400 im Bereich von 120 - 200 eV und eine Effizienz von # 15 %, bei 250 eV eine Auflösung von # 650 im Bereich von 200 - 300 eV und eine Effizienz von # 15 %, bei 450 eV eine Auflösung von # 500 im Bereich von 300 - 550 eV und eine Effizienz von # 20 %, und bei 700 eV eine Auflösung von # 550 im Bereich von 550 - 800 eV und eine Effizienz von # 10 %. Das Substrat, auf dem die RZPs angebracht werden, besteht aus Silizium (Si) und hat die Abmessungen 100 mm x 30 mm x 10 mm (L x B x H). Jede einzelne RZP soll eine Mindestgröße von 80 mm x 3 mm (L x B) aufweisen. Die Beschichtung der RZPs soll aus Nickel (Ni) oder einem anderen Material bestehen, das für die jeweiligen Spektralbereiche optimiert ist. Die Schichtdicke beträgt 40 nm.