Thermisches Dünnschichtverdampfungs-Basissystem für Metalle und organische Materialien

Die Ausschreibung umfasst die Beschaffung von zwei separaten Anlagen für die Dünnschichtverdampfung, die jeweils spezifische Anforderungen erfüllen. Anlage #1 ist ein kombiniertes thermisches Dünnschichtverdampfungs-Basissystem für Metalle und organische Materialien, das eine homogene Beschichtung auf einer Fläche von mindestens 21 x 21 cm² ermöglichen soll. Es beinhaltet eine Glovebox für den Betrieb unter inerter N₂-Atmosphäre, einen automatisierten Substratshutter zur lokalen Anpassung der Schichtdicke und eine benutzerfreundliche Software zur Steuerung aller Prozessparameter. Die Anlage soll mit sieben Verdampfungsquellen ausgestattet sein, darunter thermische Filament-Verdampfungsquellen für Metalle und Dielektrika sowie thermische Verdampfungsquellen für Metalle, Dielektrika und organische Materialien. Anlage #2 ist ein kombiniertes thermisches Dünnschichtverdampfungs-Basissystem für die thermische Verdampfung von organischen Materialien und organisch/anorganischen Hybridmaterialien. Es soll ebenfalls eine homogene Beschichtung auf einer Fläche von mindestens 21 x 21 cm² ermöglichen und über eine Glovebox, einen automatisierten Substratshutter und eine benutzerfreundliche Software verfügen. Die Anlage soll mit mindestens acht Verdampfungsquellen ausgestattet sein, darunter thermische Verdampfungsquellen für Metalle, Dielektrika und organische Materialien sowie Niedertemperaturquellen mit Wasserkühlung. Beide Anlagen sollen über eine Ladekammer mit mindestens fünf Substrat-/Maskenparkplätzen verfügen und einen automatischen Transfer der Substrate in die Depositionskammer ermöglichen. Zudem sind verschiedene Prüfungen im Rahmen der Abnahme (SAT) vorgesehen, um die Funktionalität und die Einhaltung der Spezifikationen nachzuweisen.