Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithgrafische Masken
Auftraggeber
Fraunhofer ENAS
Chemnitz
Veröffentlicht
Angebotsfrist
04.03.26
20.03.26, 17:00
Steckbrief
Reinigungssystem
fotolithgrafische Masken
Halbleiterindustrie
Reinraum
Zusammenfassung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können.
Zeitplan
Ausschreibung
Reichweite:
NATIONAL
Vergabeart:
Vergabeverordnung:
Leistung:
Lieferleistungen
Erfüllungsort:
09126 Chemnitz, DED, Deutschland
Abgabe
Abgabeform:
Elektronisch
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