Upgrade 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber WxZ Sprint Configuration
Auftraggeber
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
15236, Frankfurt (Oder)
Veröffentlicht
04.06.26
Angebotsfrist
07.07.26, 12:00
Steckbrief
Zusammenfassung
Gegenstand der Ausschreibung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm WxZ Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD) Systems des Herstellers Applied Materials Inc. auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Die Arbeiten umfassen insbesondere die Modifikation des Gasverteilungssystems für ein kontrolliertes Umschalten der Prozessgase WF6 und SiH4 zwischen Abgasleitung und Prozesskammer. Zudem ist die Installation von Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken von bis zu 300 Torr erforderlich. Das Upgrade dient der Realisierung gepulster Wolfram-Abscheidungsprozesse für High Aspect Ratio Gap-Fill Anwendungen.
Zeitplan
Ausschreibung
Voraussetzungen
- Mindestens 2-3 relevante Referenzprojekte im Bereich CVD-System-Upgrades oder Halbleiteranlagenmodifikationen
- Bank guarantee: A bank guarantee must be provided for the amount of the first installment. The guarantee should be issued in English and may only expire after acceptance.
- Beschreibung des vorgesehenen Projektteams (optional in dieser Phase)
- Eigenerklärung zur Eignung und Leistungsfähigkeit
- Unternehmensprofil (technische Schwerpunkte, Kernkompetenzen)
- Beschreibung der relevanten technischen Expertise
FAQ
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