Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage für Indium-Lotschichten in Berlin

Vertikaler Elektronenstrahlverdampfer für hochreines Germanium für MBE in Berlin

Beschafft wird ein vertikales Elektronenstrahlverdampfer-Gesamtsystem für eine Molekularstrahlepitaxie-Anlage. Das System dient der Herstellung hochreiner, undotierter und kernspinfreier epitaktischer Germaniumschichten. Zum Lieferumfang gehören der Elektronenstrahlverdampfer selbst, eine Steuereinheit, ein Netzteil sowie ein Fluss-Shutter. Zudem sind Abschirmteile aus hochreinem Silizium für den Kontaminationsschutz erforderlich. Die Lieferung erfolgt an das Leibniz-Institut für Kristallzüchtung in Berlin.

Elektronenstrahlverdampfer-Beschichtungsanlage für Universität Oldenburg

Die Carl von Ossietzky Universität Oldenburg beschafft eine Elektronenstrahlverdampfer-Beschichtungsanlage für die Arbeitsgruppe Quantenmaterialien. Das System dient der Herstellung homogener optischer und metallischer Beschichtungen auf strukturierten und planen Substraten. Zu den Kernfunktionen gehören die Abscheidung von Schichtstapeln, die thermische Verdampfung von Gold sowie die Substratreinigung mittels Ionenquelle. Die Anlage muss eine Schnittstelle zur Integration eines vorhandenen Reflektometriesystems bieten. Die Lieferung, Aufstellung und Inbetriebnahme sind innerhalb von 18 Monaten nach Zuschlagserteilung zu realisieren.

Ionenstrahl-Präparationssystem für die Hochschule Albstadt-Sigmaringen

Beschafft wird ein Ionenstrahl-Präparationssystem (Broad-Ion-Beam-System) für die Hochschule Albstadt-Sigmaringen. Die Leistungserbringung erfolgt in Albstadt.

Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD)

Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für sowohl thermische als auch plasma-gestützte Atomlagenabscheidung (ALD) von hochpräzisen Dünnfilmen auf dreidimensional vorstrukturierten und planaren Substraten mit kontrollierten Schichtdicken im Nanometer Bereich. Das geplante System soll die Abscheidung supraleitender Filme höchster Güte, insbesondere Niobiumnitrit, dielektrische Dünnfilme sowie magnetische Materialien und High-k-Dielektrika ermöglichen. Dazu soll das Gerät mit präziser in-situ Schichtdicken-überwachung ausgestattet sein um optimale Prozesskontrolle zu ermöglichen. Die angebotene Leistung umfasst Angebot und Lieferung eines Neugerätes, fristgerechte Lieferung, Funktionstest, Einweisung, Inbetriebnahme, Abnahme und Schulung vor Ort.

Induktionsanlage mit integrierter Temperaturregelung in Aachen

Beschafft wird eine Induktionsanlage mit integrierter Temperaturregelung für das Fraunhofer-Institut für Produktionstechnologie IPT. Die Anlage dient der Wärmebehandlung von Eisenbahnrädern im Rahmen eines Forschungsprojekts zur Reparatur mittels Laserauftragschweißen. Der Lieferumfang umfasst den Induktionsgenerator, die Induktorspule mit Heizkopf, ein Kühlsystem sowie sämtliches notwendiges Zubehör für die Inbetriebnahme. Die Anlage muss eine präzise Temperaturführung und kontrollierte Abkühlung ermöglichen.

Ultrahochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen

Beschafft wird ein Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen. Das System muss für die Abscheidung verschiedener Dünnschichtmaterialien geeignet sein und über mindestens sechs Magnetron-Sputterquellen verfügen. Zudem sind eine Load-Lock-Kammer, eine motorisierte Substratrotation sowie eine Substratheizung bis mindestens 600 °C erforderlich. Die Anlage muss eine vollautomatische Prozesssteuerung und eine kontinuierliche Vakuumüberwachung bieten.

Deinstallation, Verlagerung, Wiederinstallation und Inbetriebnahme eines DualBeam-FIB-SEM-Systems

Gegenstand der Beschaffung ist die Deinstallation, Verlagerung an einen neuen Aufstellort, Wiederinstallation, der Wiederanschluss, die Inbetriebnahme, Kalibrierung und Leistungsabnahme eines vorhandenen DualBeam-FIB-SEM/FIB-REM-Systems (Hersteller TESCAN GmbH, Modell GAIA3 GMH). Einbezogen sind vorhandene Systemkomponenten wie Kleindiek-Mikromanipulator, Oxford-EDX-Detektor und TOFWERK-TOF-SIMS. Zum Leistungsumfang gehören außerdem Standort- und Raummessungen hinsichtlich Bodenschwingungen, akustischer Einflüsse sowie magnetischer und elektromagnetischer Störfelder. Nach der Wiederinstallation sind die technische Integrität und die bisherige Geräteleistung durch dokumentierte Prüfungen nachzuweisen.

Lieferung, Aufstellung und Inbetriebnahme eines in-situ Nanoindenter für Rasterelektronenmikroskop (REM)

Das Max-Planck-Institut für Plasmaphysik beschafft einen in-situ Nanoindenter für ein vorhandenes Rasterelektronenmikroskop vom Typ Zeiss Auriga 60. Das System soll die quantitative mechanische Charakterisierung von Materialien auf der Mikro- und Nanoskala direkt im REM ermöglichen. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme sowie die Einweisung und Schulung des Personals. Zudem sind eine zweijährige Gewährleistung und eine umfassende technische Dokumentation gefordert.

NIR Modul

Die Ausschreibung betrifft die Beschaffung eines NIR-Moduls für die Fraunhofer-Einrichtung Forschungsfertigung Batteriezelle FFB in Münster. Es handelt sich um einen Lieferauftrag über ein einzelnes Gerät. Die Vergabe erfolgt im Rahmen eines offenen Verfahrens. Die Bewertung der Angebote basiert auf Preis, technischer Ausführung und Lieferzeit.

Präzises PBF-LB/M System zur additiven Fertigung metallischer Bauteile

Gegenstand der Ausschreibung ist die Lieferung, Aufstellung und Inbetriebnahme einer Anlage zur laserbasierten additiven Fertigung metallischer Bauteile im Pulverbett (PBF-LB/M). Das System dient Forschungs-, Entwicklungs- und Demonstrationszwecken und muss die Herstellung kleiner metallischer Bauteile sowie Prüfkörper ermöglichen. Zum Lieferumfang gehören neben der Anlage selbst auch die erforderliche Software zur Bauauftragsvorbereitung und -übertragung sowie qualifizierte Parametersätze. Zudem sind die Integration in bestehende Arbeitsabläufe, eine Bedienerschulung vor Ort und eine umfassende Anlagendokumentation gefordert.