Ultrahochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen
Auftraggeber
Universität Duisburg-Essen
47057 Duisburg
Veröffentlicht
02.11.2026
Angebotsfrist
04.12.2026, 09:00 Uhr
Steckbrief
Zusammenfassung
Beschafft wird ein Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen. Das System muss für die Abscheidung verschiedener Dünnschichtmaterialien geeignet sein und über mindestens sechs Magnetron-Sputterquellen verfügen. Zudem sind eine Load-Lock-Kammer, eine motorisierte Substratrotation sowie eine Substratheizung bis mindestens 600 °C erforderlich. Die Anlage muss eine vollautomatische Prozesssteuerung und eine kontinuierliche Vakuumüberwachung bieten.
Zeitplan
Ausschreibung
| Reichweite: | EU-Weit |
|---|---|
| Vergabeart: | Offenes Verfahren |
| Vergabeverordnung: | VgV |
| Leistung: | Lieferleistungen |
| Klassifizierung: | Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke |
| Erfüllungsort: | Duisburg, DEA12, Deutschland |
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Auftraggeber
Name
Adresse
Website
Kontakt
Teilnahme
| Abgabeform: | Elektronisch |
|---|---|
| Angebotssprachen: | Deutsch |
| Anzahl der Angebote: | Mehrere Hauptangebote sind nicht zulässig.Nebenangebote sind nicht zulässig. |
Voraussetzungen
| Referenzen: |
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|---|---|
| Sonstige: |
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Dokumente
FAQ
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