Vertikaler Elektronenstrahlverdampfer für hochreines Germanium für MBE in Berlin

Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage für Indium-Lotschichten in Berlin

Beschafft wird eine Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage für Indium-Lotschichten. Die Anlage ist für das Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik bestimmt. Es handelt sich um ein Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb. Die Lieferung umfasst die vollständige Anlage inklusive der notwendigen technischen Komponenten.

Elektronenstrahllithografie-System (EBL) mit REM-Funktionen

Beschafft wird ein Elektronenstrahllithografie-System (EBL) mit integrierten Funktionen zur Rasterelektronenmikroskopie (REM). Das System dient der direkten, maskenlosen Strukturierung elektronenempfindlicher Resistschichten auf Proben bis zu 25 mm x 25 mm. Zusätzlich soll das Gerät für hochauflösende REM-Aufnahmen zur zerstörungsfreien Qualitätskontrolle und Strukturverifikation eingesetzt werden. Die Lieferung umfasst alle notwendigen Baugruppen, die Anlagensteuerung sowie die Inbetriebnahme und Einweisung des Personals.

Elektronenstrahlverdampfer-Beschichtungsanlage für Universität Oldenburg

Die Carl von Ossietzky Universität Oldenburg beschafft eine Elektronenstrahlverdampfer-Beschichtungsanlage für die Arbeitsgruppe Quantenmaterialien. Das System dient der Herstellung homogener optischer und metallischer Beschichtungen auf strukturierten und planen Substraten. Zu den Kernfunktionen gehören die Abscheidung von Schichtstapeln, die thermische Verdampfung von Gold sowie die Substratreinigung mittels Ionenquelle. Die Anlage muss eine Schnittstelle zur Integration eines vorhandenen Reflektometriesystems bieten. Die Lieferung, Aufstellung und Inbetriebnahme sind innerhalb von 18 Monaten nach Zuschlagserteilung zu realisieren.

EDX und EBSD Detektor Lieferung und Inbetriebnahme

Beschafft werden ein EDX-Detektor für ein Rasterelektronenmikroskop vom Typ Zeiss AURIGA 60 sowie ein EBSD-Detektor für ein Thermo Fisher AXIA-ChemiSEM. Die Leistungen umfassen die Lieferung, Aufstellung, Montage und Inbetriebnahme der Detektoren am Standort Garching. Zudem sind eine Grundeinweisung vor Ort sowie eine vertiefende Schulung für das Systempersonal gefordert. Die Bereitstellung einer vollständigen Dokumentation und eine zweijährige Gewährleistung sind ebenfalls Bestandteil des Auftrags.

Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD)

Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für sowohl thermische als auch plasma-gestützte Atomlagenabscheidung (ALD) von hochpräzisen Dünnfilmen auf dreidimensional vorstrukturierten und planaren Substraten mit kontrollierten Schichtdicken im Nanometer Bereich. Das geplante System soll die Abscheidung supraleitender Filme höchster Güte, insbesondere Niobiumnitrit, dielektrische Dünnfilme sowie magnetische Materialien und High-k-Dielektrika ermöglichen. Dazu soll das Gerät mit präziser in-situ Schichtdicken-überwachung ausgestattet sein um optimale Prozesskontrolle zu ermöglichen. Die angebotene Leistung umfasst Angebot und Lieferung eines Neugerätes, fristgerechte Lieferung, Funktionstest, Einweisung, Inbetriebnahme, Abnahme und Schulung vor Ort.

Ultrahochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen

Beschafft wird ein Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen. Das System muss für die Abscheidung verschiedener Dünnschichtmaterialien geeignet sein und über mindestens sechs Magnetron-Sputterquellen verfügen. Zudem sind eine Load-Lock-Kammer, eine motorisierte Substratrotation sowie eine Substratheizung bis mindestens 600 °C erforderlich. Die Anlage muss eine vollautomatische Prozesssteuerung und eine kontinuierliche Vakuumüberwachung bieten.

Ionenstrahl-Präparationssystem für die Hochschule Albstadt-Sigmaringen

Beschafft wird ein Ionenstrahl-Präparationssystem (Broad-Ion-Beam-System) für die Hochschule Albstadt-Sigmaringen. Die Leistungserbringung erfolgt in Albstadt.

Lieferung und Installation von Die-Bonder und Photonic-Bonder

Beschafft wird ein Anlagencluster bestehend aus einem Die-Bonder und einem Photonic-Bonder für die hochpräzise Montage elektronischer und photonischer Komponenten. Die Anlagen sind für Forschungs- und Entwicklungszwecke sowie für die Kleinserienfertigung konzipiert und zeichnen sich durch hohe Positioniergenauigkeit und Prozessstabilität aus. Ein wesentlicher Fokus liegt auf der Modularität und der gegenseitigen Kompatibilität der beiden Systeme hinsichtlich Prozessmodulen, Werkzeugen und Software. Beide Anlagen müssen für den Einsatz in Reinraumumgebungen der Klassen ISO 4 bis ISO 6 geeignet sein.

Computergesteuertes Schleif-, Läpp- und Poliersystem

Beschafft wird ein computergesteuertes Schleif-, Läpp- und Poliersystem für die wissenschaftliche Materialprobenpräparation. Das System muss für die Bearbeitung von Halbleitern, Oxiden, Keramiken und Metallen geeignet sein. Ziel ist die reproduzierbare Herstellung planparalleler Proben mit hoher Oberflächenqualität und definierter Enddicke. Die Anlage muss automatisierte Prozessführungen unterstützen und eine präzise Dickenkontrolle ermöglichen. Die Lieferung umfasst zudem die Installation, Inbetriebnahme und Einweisung vor Ort.

Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie

Beschafft wird ein Hochtemperatur- und LP-CVD-System für die Microsystemtechnik und Nanotechnologie. Die Anlage muss über acht Prozessstationen verfügen, die für die parallele Bearbeitung von Siliziumwafern ausgelegt sind. Das System ist für Hochtemperatur- und LP-CVD-Prozesse konzipiert und umfasst die notwendige Gasversorgung, Steuerung und Sicherheitstechnik. Die Lieferung beinhaltet zudem die Montage, Inbetriebnahme sowie die Prozessabnahme vor Ort.