Elektronenstrahlverdampfer-Beschichtungsanlage für Universität Oldenburg

Ultrahochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen

Beschafft wird ein Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem für die Universität Duisburg-Essen. Das System muss für die Abscheidung verschiedener Dünnschichtmaterialien geeignet sein und über mindestens sechs Magnetron-Sputterquellen verfügen. Zudem sind eine Load-Lock-Kammer, eine motorisierte Substratrotation sowie eine Substratheizung bis mindestens 600 °C erforderlich. Die Anlage muss eine vollautomatische Prozesssteuerung und eine kontinuierliche Vakuumüberwachung bieten.

Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD)

Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für sowohl thermische als auch plasma-gestützte Atomlagenabscheidung (ALD) von hochpräzisen Dünnfilmen auf dreidimensional vorstrukturierten und planaren Substraten mit kontrollierten Schichtdicken im Nanometer Bereich. Das geplante System soll die Abscheidung supraleitender Filme höchster Güte, insbesondere Niobiumnitrit, dielektrische Dünnfilme sowie magnetische Materialien und High-k-Dielektrika ermöglichen. Dazu soll das Gerät mit präziser in-situ Schichtdicken-überwachung ausgestattet sein um optimale Prozesskontrolle zu ermöglichen. Die angebotene Leistung umfasst Angebot und Lieferung eines Neugerätes, fristgerechte Lieferung, Funktionstest, Einweisung, Inbetriebnahme, Abnahme und Schulung vor Ort.

Vertikaler Elektronenstrahlverdampfer für hochreines Germanium für MBE in Berlin

Beschafft wird ein vertikales Elektronenstrahlverdampfer-Gesamtsystem für eine Molekularstrahlepitaxie-Anlage. Das System dient der Herstellung hochreiner, undotierter und kernspinfreier epitaktischer Germaniumschichten. Zum Lieferumfang gehören der Elektronenstrahlverdampfer selbst, eine Steuereinheit, ein Netzteil sowie ein Fluss-Shutter. Zudem sind Abschirmteile aus hochreinem Silizium für den Kontaminationsschutz erforderlich. Die Lieferung erfolgt an das Leibniz-Institut für Kristallzüchtung in Berlin.

Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage für Indium-Lotschichten in Berlin

Beschafft wird eine Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage für Indium-Lotschichten. Die Anlage ist für das Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik bestimmt. Es handelt sich um ein Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb. Die Lieferung umfasst die vollständige Anlage inklusive der notwendigen technischen Komponenten.

Computergesteuertes Schleif-, Läpp- und Poliersystem

Beschafft wird ein computergesteuertes Schleif-, Läpp- und Poliersystem für die wissenschaftliche Materialprobenpräparation. Das System muss für die Bearbeitung von Halbleitern, Oxiden, Keramiken und Metallen geeignet sein. Ziel ist die reproduzierbare Herstellung planparalleler Proben mit hoher Oberflächenqualität und definierter Enddicke. Die Anlage muss automatisierte Prozessführungen unterstützen und eine präzise Dickenkontrolle ermöglichen. Die Lieferung umfasst zudem die Installation, Inbetriebnahme und Einweisung vor Ort.

Raman Microscope System

Beschafft wird ein vollautomatisiertes konfokales Raman-/Photolumineszenz-Mikroskopsystem für das Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materie. Das System dient der Untersuchung von Quantenmaterialien und muss unter anderem Raman-Spektroskopie im Niedrigfrequenzbereich sowie Photolumineszenz-Spektroskopie ermöglichen. Zum Lieferumfang gehören neben dem Mikroskop auch die Installation sowie eine umfassende Anwenderschulung. Das System muss zudem für spätere Erweiterungen, etwa durch ein AFM/SPM-Modul, vorbereitet sein.

UV/Vis/NIR-Spektrophotometer für Materialcharakterisierung

Beschafft werden soll ein betriebsbereites Standalone-UV/Vis/NIR-Spektrophotometer zur quantitativen Charakterisierung fester, nanostrukturierter, poröser und photonischer Materialien. Das System muss Transmissions-, Reflexions-, winkel- und polarisationsabhängige Messungen sowie automatisierte Langzeitmessungen unterstützen. Zum Lieferumfang gehören neben dem Spektrophotometer die Steuer- und Auswertesoftware, ein Rechner mit Monitor sowie die Installation, Inbetriebnahme und eine Grundeinweisung. Die Anlieferung muss in Transporteinheiten erfolgen, die durch eine Aufzugstür mit einer lichten Breite von 89 cm passen.

Lieferung einer Ultrakurzpuls-Laseranlage für Forschung

Beschafft wird eine Ultrakurzpuls-Laseranlage für die hochschulübergreifende und interdisziplinäre Forschung in den Bereichen Sensorik, Aktorik, Medizintechnik und KI-basierte Materialbearbeitung. Das System muss eine präzise Mikrostrukturierung verschiedener Materialien sowie Dünnschichtablation ermöglichen. Die Anlage ist als 6-Achs-System konzipiert und erfordert eine zentrale Anlagensteuerung. Zum Lieferumfang gehören neben der Hardware auch die Inbetriebnahme, Dokumentation, Mitarbeiterschulung sowie ein fünfjähriges Wartungs- und Servicepaket.

EDX und EBSD Detektor Lieferung und Inbetriebnahme

Beschafft werden ein EDX-Detektor für ein Rasterelektronenmikroskop vom Typ Zeiss AURIGA 60 sowie ein EBSD-Detektor für ein Thermo Fisher AXIA-ChemiSEM. Die Leistungen umfassen die Lieferung, Aufstellung, Montage und Inbetriebnahme der Detektoren am Standort Garching. Zudem sind eine Grundeinweisung vor Ort sowie eine vertiefende Schulung für das Systempersonal gefordert. Die Bereitstellung einer vollständigen Dokumentation und eine zweijährige Gewährleistung sind ebenfalls Bestandteil des Auftrags.

Lieferung, Aufstellung und Inbetriebnahme eines in-situ Nanoindenter für Rasterelektronenmikroskop (REM)

Das Max-Planck-Institut für Plasmaphysik beschafft einen in-situ Nanoindenter für ein vorhandenes Rasterelektronenmikroskop vom Typ Zeiss Auriga 60. Das System soll die quantitative mechanische Charakterisierung von Materialien auf der Mikro- und Nanoskala direkt im REM ermöglichen. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme sowie die Einweisung und Schulung des Personals. Zudem sind eine zweijährige Gewährleistung und eine umfassende technische Dokumentation gefordert.