Palladium Target Herstellung und Recycling

Herstellung eines Aluminium Targets

Beschafft wird ein Aluminium-Target gemäß den beigefügten technischen Zeichnungen. Das Target muss einen Durchmesser von 150 mm und eine Dicke von 6 mm aufweisen. Die Reinheit des Materials muss mindestens 5N5 betragen. Zudem ist eine monolytische Kühlplatte erforderlich.

Laserbearbeitungssystem

Beschafft wird ein geschlossenes Laserbearbeitungssystem für Forschungs- und Entwicklungszwecke am Fraunhofer IFAM in Dresden. Das System ist für Schneid-, Markier-, Gravur-, Strukturierungs- und Lasersinter-Aufgaben an metallischen Werkstoffen wie Ni, Fe, Cu und Ag vorgesehen. Es muss eine gepulste Ytterbium-Faserlaserquelle mit einer Leistung zwischen 80 W und 100 W umfassen. Zudem sind eine programmierbare X-/Y-Positionierung, eine Z-Achse sowie eine nutzbare Bearbeitungsfläche von mindestens 400 mm x 400 mm erforderlich. Die Lieferung beinhaltet die Installation, Inbetriebnahme, Dokumentation sowie eine Einweisung des Bedienpersonals.

Pads für Mirra Anlage zum Oxide Polieren von 8 Zoll Wafern

Beschafft werden 12 Polierpads für die CMP-Anlage MIRRA des Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme (ENAS) in Chemnitz. Die Pads müssen für den chemisch-mechanischen Polierprozess (CMP) von Oxid-Schichten geeignet sein und über ein integriertes optisches Fenster für die Endpunkterkennung verfügen. Da die Anlage bisher ausschließlich mit Produkten eines spezifischen Herstellers betrieben wurde, müssen alternative Polierpads ihre Eignung durch technische Nachweise oder praktische Qualifikationstests belegen. Die Pads müssen spezifische Anforderungen an Material, Geometrie, Härte und Oberflächenmuster erfüllen, um eine reproduzierbare Polierqualität und Prozessstabilität zu gewährleisten.

Lieferung edelmetallfreier Elektrodenbeschichtungen für Alkalische Wasserelektrolysezellen

Das Deutsche Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. beschafft fortschrittliche, edelmetallfreie Elektrodenbeschichtungen für alkalische Wasserelektrolysezellen. Die Beschichtungen basieren auf porösen Nickel-Legierungen und sollen mittels thermischen Spritzens auf Nickel-Substrate aufgebracht werden. Die Elektroden sind für den Einsatz in Elektrolyse-Stacks bei hohem Druck, hohen Temperaturen und hohen Stromdichten vorgesehen. Der Auftrag umfasst die Beschaffung der Substrate, die Beschichtung, das Zuschneiden sowie die chemische Aktivierung der Elektroden. Die Lieferung erfolgt an den DLR-Standort in Stuttgart.

Hochvakuum-PVD-Anlage für funktionelle Dünnschichten (Magnetron-Sputtern)

Beschafft wird eine kompakte Hochvakuum-PVD-Anlage für das Magnetron-Sputtern zur Herstellung funktioneller Dünnschichten. Das System muss als vollständig integrierte Tischanlage konzipiert sein und sowohl DC- als auch RF-Sputterprozesse unterstützen. Die Anlage dient der Prozessentwicklung sowie der reproduzierbaren Abscheidung von metallischen, oxidischen und nitridischen Schichten. Zum Lieferumfang gehören neben der Hardware auch die Installation, Inbetriebnahme, Personalschulung und technische Dokumentation.

Lieferung von partikulärem Iridiumoxid für Elektrolyseurmembranen

Beschafft werden 15 Gramm partikuläres Iridiumoxid für das Projekt Irion. Das Material dient der Herstellung von Tinten zur Beschichtung von Elektrolyseurmembranen in der PEM-Wasserelektrolyse. Es wird Iridiumoxid Premion mit einem Iridiumanteil von 84,50 % und einer Reinheit der Metallkomponente von 99,99 % benötigt. Das Iridiumoxid muss der Spezifikation Iridium(IV)-oxid mit der CAS-Nummer 12030-49-8 entsprechen.

Kompakte Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage für funktionelle Dünnschichten

Beschafft wird eine kompakte Atomic-Layer-Deposition-Anlage für den Einsatz auf einem Standard-Labortisch. Das System dient der hochpräzisen und reproduzierbaren Abscheidung funktionaler Dünnschichten für Forschungszwecke in der Mikro- und Nanotechnologie. Die Anlage muss für verschiedene Substratarten und komplexe Geometrien geeignet sein. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Inbetriebnahme, Schulung und technische Unterstützung.