Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie

High Temperature 200 mm Ion Implanter

Beschaffung eines High Temperature 200 mm Ion Implanters. Optionen umfassen alternative Verfahren zur Implantation von Al, ein Messsystem zur Bestimmung der exakten Ausrichtung des SiC für die Channeling-Implantation sowie einen zweijährigen Wartungsvertrag mit Verlängerungsoptionen.

Beschaffung einer kompakten Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage

Beschafft wird eine kompakte Atomic-Layer-Deposition-Anlage (ALD) für den Einsatz in Forschungsprojekten der Mikro- und Nanotechnologie sowie Halbleitertechnik. Das System dient der hochpräzisen und reproduzierbaren Abscheidung funktionaler Dünnschichten auf verschiedenen Substratarten. Es ist als Tischgerät konzipiert, das direkt auf einem Standard-Labortisch betrieben werden kann. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Installation, Inbetriebnahme sowie eine Schulung des wissenschaftlichen Personals.

Lieferung eines Rapid Thermal Annealers

Lieferung eines Gerätesystems gem. beigefügter Leistungsbeschreibung. DFG-Az.: EXC 2111/2 TP 2 (A 222) Lieferung eines Rapid Thermal Annealers.

Low-pressure CVD-Anlage

Beschaffung einer Low-pressure CVD-Anlage für den Standort Chemnitz. Der Vertrag umfasst die Lieferung der Anlage. Die Ausführung ist für September 2027 geplant.

Lieferung einer Magnetronsputteranlage für Dünnschichtmaterialentwicklung

Die Universität Kassel beschafft eine automatisierte Mehrtarget-Magnetronsputteranlage für die Dünnschichtmaterialentwicklung. Das System ist für den Einsatz im Reinraum vorgesehen und für die Beschichtung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm ausgelegt. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie die Einweisung des Personals. Zudem sind die notwendige Steuerungs- und Computersoftware sowie eine umfassende Dokumentation und Garantie Bestandteil des Auftrags.

Sputteranlage inkl. Nebenleistungen

Beschaffung einer Sputteranlage inklusive umfangreicher Nebenleistungen. Die Leistungen umfassen Fertigung, Vorabnahme, Lieferung, Einbringung, Aufbau, Montage, Einbau, Inbetriebnahme, Dichtheitsprüfung, Endabnahme und Dokumentation. Zusätzlich sind diverse Programmierleistungen zu erbringen.

Lieferung und Installation von Die-Bonder und Photonic-Bonder

Beschafft wird ein Anlagencluster bestehend aus einem Die-Bonder und einem Photonic-Bonder für die hochpräzise Montage elektronischer und photonischer Komponenten. Die Anlagen sind für Forschungs- und Entwicklungszwecke sowie für die Kleinserienfertigung konzipiert und zeichnen sich durch hohe Positioniergenauigkeit und Prozessstabilität aus. Ein wesentlicher Fokus liegt auf der Modularität und der gegenseitigen Kompatibilität der beiden Systeme hinsichtlich Prozessmodulen, Werkzeugen und Software. Beide Anlagen müssen für den Einsatz in Reinraumumgebungen der Klassen ISO 4 bis ISO 6 geeignet sein.

Maskenloses Lithographiesystem für Hahn-Schickard gGmbH

Beschafft wird ein maskenloses Lithographiesystem zur hochpräzisen Belichtung von Fotolacken im Submikrometerbereich. Das System ermöglicht die Herstellung temporärer und permanenter Masken auf verschiedenen Substratmaterialien wie Halbleitern, Keramik, Glas und organischen Stoffen. Es ist für den Einsatz in Reinraumumgebungen konzipiert und unterstützt sowohl F&E-Prozesse als auch die Produktion kleiner bis mittlerer Losgrößen. Die Steuerung erfolgt über eine integrierte Software mit grafischer Benutzeroberfläche zur Prozessverwaltung und -visualisierung. Das System zeichnet sich durch eine hohe Flexibilität bei der Komponentenaufnahme und eine präzise Laserbelichtung aus.

Miete eines fasergekoppelten Diodenlasersystems

Beschafft wird die Miete eines fasergekoppelten Hochleistungs-Diodenlasersystems mit einer Dauerstrichleistung von 8 kW. Das System umfasst neben der Strahlquelle ein Lichtleitkabel, einen gewinkelten Optikkopf, ein Pyrometer sowie die notwendige Software zur Laseransteuerung und Temperaturregelung. Die Anlage ist für eine vollflächige, laserbasierte thermische Materialbearbeitung von Substraten mit einer Schichtdicke von unter 1 mm vorgesehen. Die Mietdauer beträgt sieben Monate im Zeitraum von März bis September 2027. Die Lieferung, Inbetriebnahme und Einweisung des Personals erfolgen am Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE in Freiburg.

Auf- und Umrüstung einer Veeco K300 MOVPE-Anlage

Die Technische Universität Braunschweig schreibt die Auf- und Umrüstung einer bestehenden Veeco K300 MOVPE-Anlage aus dem Baujahr 2007 aus. Der Auftrag umfasst ein Steuerungssoftware- und SPS-Upgrade, die Aufrüstung für zwei Hochtemperatur-Metallorganik-Quellenliefersysteme sowie eine Durchfluss-Flanschmodifikation. Ziel ist die Modernisierung der Anlage für die Epitaxie von GaInAlN und die Ermöglichung neuer Prozessanforderungen. Die Arbeiten beinhalten die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme und Einweisung des Personals.