Maskenloses Lithographiesystem für Hahn-Schickard gGmbH

Auftraggeber

Hahn-Schickard gGmbH

70569 Stuttgart

Veröffentlicht

07.10.2026

Angebotsfrist

16.11.2026, 11:00 Uhr

Steckbrief

Lithographiesystem
Labortechnik
Messtechnik
Fotolack
Maskenlose Belichtung

Zusammenfassung

Beschafft wird ein maskenloses Lithographiesystem zur hochpräzisen Belichtung von Fotolacken im Submikrometerbereich. Das System ermöglicht die Herstellung temporärer und permanenter Masken auf verschiedenen Substratmaterialien wie Halbleitern, Keramik, Glas und organischen Stoffen. Es ist für den Einsatz in Reinraumumgebungen konzipiert und unterstützt sowohl F&E-Prozesse als auch die Produktion kleiner bis mittlerer Losgrößen. Die Steuerung erfolgt über eine integrierte Software mit grafischer Benutzeroberfläche zur Prozessverwaltung und -visualisierung. Das System zeichnet sich durch eine hohe Flexibilität bei der Komponentenaufnahme und eine präzise Laserbelichtung aus.

Zeitplan

Bekanntmachung07.10.2026
Heute15.10.2026
Abgabefrist16.11.2026
Veröffentlichungsende16.11.2026
Bindefrist30.11.2026
Laufzeitende29.06.2027

Ausschreibung

Reichweite:National
Vergabeart:Öffentliche Ausschreibung
Vergabeverordnung:UVgO
Leistung:Lieferleistungen
Zuschlagskriterien:
Wirtschaftlichkeit (siehe Ziff. 7.13 Spezifikation)
Erfüllungsort:Allmandring 9b, 70569 Stuttgart, DE

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Auftraggeber

Name

Adresse

Website

—

Kontakt

—

Teilnahme

Abgabeform:Elektronisch
Anzahl der Angebote:
Mehrere Hauptangebote sind nicht zulässig.Nebenangebote sind nicht zulässig.

Voraussetzungen

Finanziell:
  • Nachweis einer entsprechenden Berufs- oder Haftpflichtversicherung
Rechtlich:
  • Eigenerklärung, dass kein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde
  • Eigenerklärung über das Einhalten des Tariftreue- und Mindestlohngesetzes und über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Sozialabgaben

Dokumente

MN-Technische-Spezifikation_Direktbelichter_Final_deutsch.pdf

Leistungsumfang
143 KB

Detaillierte technische Spezifikation für ein maskenloses Lithographiesystem (Direktbelichter), umfassend Anforderungen an Komponenten, Optik, Steuerung, Reinraumtauglichkeit sowie Lieferumfang und Abnahmebedingungen.

FAQ

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