Maskenloses Lithographiesystem für Hahn-Schickard gGmbH
Auftraggeber
Hahn-Schickard gGmbH
70569 Stuttgart
Veröffentlicht
07.10.2026
Angebotsfrist
16.11.2026, 11:00 Uhr
Steckbrief
Zusammenfassung
Beschafft wird ein maskenloses Lithographiesystem zur hochpräzisen Belichtung von Fotolacken im Submikrometerbereich. Das System ermöglicht die Herstellung temporärer und permanenter Masken auf verschiedenen Substratmaterialien wie Halbleitern, Keramik, Glas und organischen Stoffen. Es ist für den Einsatz in Reinraumumgebungen konzipiert und unterstützt sowohl F&E-Prozesse als auch die Produktion kleiner bis mittlerer Losgrößen. Die Steuerung erfolgt über eine integrierte Software mit grafischer Benutzeroberfläche zur Prozessverwaltung und -visualisierung. Das System zeichnet sich durch eine hohe Flexibilität bei der Komponentenaufnahme und eine präzise Laserbelichtung aus.
Zeitplan
Ausschreibung
| Reichweite: | National |
|---|---|
| Vergabeart: | Öffentliche Ausschreibung |
| Vergabeverordnung: | UVgO |
| Leistung: | Lieferleistungen |
| Zuschlagskriterien: | Wirtschaftlichkeit (siehe Ziff. 7.13 Spezifikation) |
| Erfüllungsort: | Allmandring 9b, 70569 Stuttgart, DE |
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Auftraggeber
Name
Adresse
Website
Kontakt
Teilnahme
| Abgabeform: | Elektronisch |
|---|---|
| Anzahl der Angebote: | Mehrere Hauptangebote sind nicht zulässig.Nebenangebote sind nicht zulässig. |
Voraussetzungen
| Finanziell: |
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|---|---|
| Rechtlich: |
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Dokumente
FAQ
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