Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP) für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen

Pads für Mirra Anlage zum Oxide Polieren von 8 Zoll Wafern

Beschafft werden 12 Polierpads für die CMP-Anlage MIRRA des Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme (ENAS) in Chemnitz. Die Pads müssen für den chemisch-mechanischen Polierprozess (CMP) von Oxid-Schichten geeignet sein und über ein integriertes optisches Fenster für die Endpunkterkennung verfügen. Da die Anlage bisher ausschließlich mit Produkten eines spezifischen Herstellers betrieben wurde, müssen alternative Polierpads ihre Eignung durch technische Nachweise oder praktische Qualifikationstests belegen. Die Pads müssen spezifische Anforderungen an Material, Geometrie, Härte und Oberflächenmuster erfüllen, um eine reproduzierbare Polierqualität und Prozessstabilität zu gewährleisten.

Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Beschafft wird ein teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken zur Verwendung in einem Reinraum der Halbleiterindustrie. Das System muss die Reinigung von 6-, 7- und 9-Zoll-Masken durch austauschbare Chucks ermöglichen. Die Anlage umfasst Funktionen wie Hochdruckreinigung, Megasonic-Reinigung, Bürstenreinigung, N2-Trocknung sowie eine CO2-Wasser-Ionisierung. Zudem sind die Installation, Inbetriebnahme und eine Anwenderschulung für drei Personen gefordert.

DRIE Ätzanlage für MEMS

Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt die Beschaffung einer DRIE-Ätzanlage für das tiefe Silicium-Ätzen von Wafer-Substraten bis zu einem Durchmesser von 200 mm. Das System soll primär für die Herstellung hochpräziser MEMS-Strukturen auf SOI-Wafern mittels des zyklischen Bosch-Prozesses eingesetzt werden. Zudem dient die Anlage der Erforschung neuer, umweltfreundlicherer Ätzkonzepte und der Entwicklung alternativer Ätzmedien. Die Anlage muss über eine leistungsfähige ICP-Quelle, einen Bias-Generator sowie eine optische Emissionsspektroskopie zur präzisen Prozesssteuerung verfügen.

Mikrooptikdrucker für Quantentechnologien

Beschafft wird ein Mikrooptikdrucker für das Institut für Quantentechnologien des DLR am Standort Ulm. Die Anlage dient der additiven Fertigung von Mikro- und Nanostrukturen sowie Mikrooptiken mittels Zwei-Photonen-Polymerisation. Das System muss für den Einsatz in einem Reinraum der Klasse ISO 5 geeignet sein. Zum Lieferumfang gehören neben der Hardware auch die notwendige Software, Optikkonfigurationen, Substrathalter sowie Verbrauchsmaterialien. Zudem sind die Inbetriebnahme, Abnahme, Dokumentation und Personalschulung gefordert.

Universelles nanomechanisches Prüfsystem (Nanoindentationssystem)

Die Technische Universität Berlin beschafft ein universelles nanomechanisches Prüfsystem zur Durchführung multifunktionaler mechanischer Prüfungen an Baustoffen und Bauteilen. Der Lieferumfang umfasst das Nanoindentationssystem inklusive Einhausung, Vibrationsdämpfung, Messkopf mit wechselbaren Spitzen, Positionierungstisch sowie die notwendige Hard- und Software. Neben der Lieferung sind die Inbetriebnahme, ein Probelauf sowie eine technische Einweisung und Schulung des Personals erforderlich. Das System muss als Neugerät geliefert werden und eine umfassende Dokumentation beinhalten.

Multifunktionales FPGA-basiertes Steuerungs-, Mess- und Signalverarbeitungsinstrument

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft ein multifunktionales FPGA-basiertes Steuerungs-, Mess- und Signalverarbeitungsinstrument. Das Gerät muss über acht analoge Eingangs- und Ausgangskanäle mit hoher Bandbreite und Abtastrate verfügen. Es ist für den Einsatz in der Forschung vorgesehen und muss eine Vielzahl integrierter Instrumente wie Oszilloskop, Spektrumanalysator und PID-Regler unterstützen. Die Lieferung erfolgt als Gesamtsystem inklusive der notwendigen Nebenleistungen an das Institut für Angewandte Physik in Jena.

Profilometer

Beschafft wird ein Profilometer für 300mm-Wafer zur Messung von Schichtdicken, Rauheit und Wölbung. Das Gerät muss in der Lage sein, Substratoberflächen von 100mm bis 300mm Wafern sowie quadratische Panels bis 300mm Kantenlänge zu scannen. Die Messung erfolgt mittels einer Nadel mit einstellbaren Kräften und Geschwindigkeiten. Der Lieferumfang umfasst die Installation, Inbetriebnahme und Einweisung am Standort des Fraunhofer IZM in Berlin.

Abstimmbare Laserlichtquelle für das Nahinfrarot

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft eine abstimmbare Laserlichtquelle für das Nahinfrarot. Das Gerät dient der hochaufgelösten Vermessung des Transmissions- und Streuverhaltens passiver integriert-optischer Schaltkreise. Die Laserlichtquelle muss einen Spektralbereich von 1500 nm bis 1630 nm abdecken und eine Ausgangsleistung von mindestens 16 dBm bieten. Der Lieferumfang umfasst neben dem Gerät auch die Ersteinweisung von mindestens zwei Mitarbeitern sowie eine 24-monatige Gewährleistung.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

Gerät für die Dynamisch-mechanische Analyse

Die Technische Universität Hamburg beschafft ein Gerät für die dynamisch-mechanische Analyse zur Untersuchung des komplexen Elastizitätsmoduls von Hybridmaterialien. Das System muss die Charakterisierung von millimetergroßen Metallproben unter kontrollierten Umgebungsbedingungen wie Elektrolyteintauchung, Luftfeuchtigkeit und Gasatmosphären ermöglichen. Zum Lieferumfang gehören das Messgerät, Steuerungscomputer, Software, Temperierung sowie eine einführende Anwenderschulung. Das Gerät ist für den Einsatz in der Forschung konzipiert und muss eine hohe Präzision bei der Kraft- und Verschiebungsauflösung aufweisen.