Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)
Auftraggeber
Universität Heidelberg
69117 Heidelberg
Veröffentlicht
24.08.2026
Angebotsfrist
05.10.2026, 08:00 Uhr
Steckbrief
Zusammenfassung
Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.
Zeitplan
Ausschreibung
| Reichweite: | EU-Weit |
|---|---|
| Vergabeart: | Offenes Verfahren |
| Vergabeverordnung: | VgV |
| Leistung: | Lieferleistungen |
| Klassifizierung: | Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) |
| Zuschlagskriterien: | Bewertung nach der UfAB-Methode: Der Zuschlag wird auf das wirtschaftlichste Angebot erteilt (Leistungs-Preis-Verhältnis unter Anwendung der Erweiterten Richtwertmethode gemäß UfAB 2018.04). Gewichtung: 100.0 |
| Auftrags-Budget: | 806.000 € |
| Erfüllungsort: | Heidelberg, DE125, Deutschland |
Auftraggeber
Name
Adresse
Website
Kontakt
Teilnahme
| Abgabeform: | Elektronisch |
|---|---|
| Angebotssprachen: | Deutsch |
| Anzahl der Angebote: | Mehrere Hauptangebote sind nicht zulässig.Nebenangebote sind nicht zulässig. |
Voraussetzungen
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| Finanziell: |
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| Sonstige: |
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Dokumente
FAQ
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