DRIE Ätzanlage für MEMS

Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP) für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft eine chemisch-mechanische Poliermaschine für wissenschaftliche Zwecke. Das Gerät ist für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen, insbesondere Wafern bis 100 Millimeter Durchmesser, vorgesehen. Es muss eine RMS-Rauigkeit von unter 1 Nanometer erreichen und über ein schwingungsgedämpftes Gehäuse verfügen. Zum Lieferumfang gehören die Installation, Inbetriebnahme, eine Vor-Ort-Einweisung sowie die Gewährleistung. Die Beschaffung erfolgt als Gesamtsystem inklusive der notwendigen Steuerungs- und Analysesoftware.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

Secondary ion mass spectrometer (SIMS)

Beschaffung eines hochempfindlichen SIMS-Instruments für die tiefenprofilierte chemische Analyse von Halbleitermaterialien und -strukturen. Das System soll eine präzise Dotierstoff- und Verunreinigungsprofilierung sowie eine genaue Bestimmung der Schichtdicke und Homogenität ermöglichen. Der Fokus liegt auf der Charakterisierung fortschrittlicher III-V- und diamantbasierter Bauelementstrukturen und Epitaxieschichten, einschließlich 150-mm-Substraten.

Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Beschafft wird ein teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken zur Verwendung in einem Reinraum der Halbleiterindustrie. Das System muss die Reinigung von 6-, 7- und 9-Zoll-Masken durch austauschbare Chucks ermöglichen. Die Anlage umfasst Funktionen wie Hochdruckreinigung, Megasonic-Reinigung, Bürstenreinigung, N2-Trocknung sowie eine CO2-Wasser-Ionisierung. Zudem sind die Installation, Inbetriebnahme und eine Anwenderschulung für drei Personen gefordert.

Kompakte Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage für funktionelle Dünnschichten

Beschafft wird eine kompakte Atomic-Layer-Deposition-Anlage für den Einsatz auf einem Standard-Labortisch. Das System dient der hochpräzisen und reproduzierbaren Abscheidung funktionaler Dünnschichten für Forschungszwecke in der Mikro- und Nanotechnologie. Die Anlage muss für verschiedene Substratarten und komplexe Geometrien geeignet sein. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Inbetriebnahme, Schulung und technische Unterstützung.

Erneuerung und Erweiterung einer MOVPE-Anlage für III-Nitrid und 2D-Halbleiter

Die Ausschreibung betrifft die Erneuerung und Erweiterung einer bestehenden MOVPE-Anlage (Metallorganische Gasphasenepitaxie) des Herstellers Aixtron für III-Nitrid und 2D-Halbleiter. Der Leistungsumfang umfasst den Austausch spezifischer Komponenten wie der Prozesspumpe, des Showerhead-Gaseinlasses und von Rückschlagventilen. Zudem ist die Anlage um Leitungen für die Quellmaterialien Triethylboran und Ethen zu erweitern, inklusive der notwendigen Anpassungen am Gasversorgungssystem. Die Arbeiten beinhalten die Lieferung, Montage, Integration, Inbetriebnahme sowie eine umfassende Funktionsprüfung der Anlage.

Plasmawäscher Beschaffung

Beschafft wird ein Plasma-Wäscher (Plasma Abatement) zur Abgasreinigung für ein Halbleiter-Forschungsumfeld. Das System dient der Zersetzung schädlicher Gase, Dämpfe und Partikel aus PECVD- und RIE-Prozessen mittels ionisiertem Gas. Es ist für den Anschluss an zehn Prozesskammern verschiedener Anlagentypen konzipiert. Die Anlage muss spezifische Anforderungen an die Abgasbehandlung, den Medienverbrauch und die Sicherheitsstandards erfüllen.

Aerosol-Jet-Printing-System

Im Rahmen des offenen Verfahrens wird ein Stück Aerosol-Jet-Printing-System ausgeschrieben. Das System ist gezielt für die Erzeugung hochaufgelöster Strukturen mit exzellenter Kantenschärfe und hoher geometrischer Präzision vorgesehen. Ein wesentlicher Vorteil liegt in der langen stabilen Druckdauer bei gleichzeitigem materialsparendem Prozess, was eine wirtschaftliche und reproduzierbare Fertigung kleinster Funktionsstrukturen ermöglicht.

Mikrodispenser für photonisch integrierte Sensorchips

Das Fraunhofer HHI schreibt die Beschaffung eines hochdurchsatzfähigen, kontaktlos arbeitenden Mikrodispensiersystems zur präzisen Applikation kleinster Flüssigkeitsvolumina auf planare Substrate aus. Das System soll für die Entwicklung, Optimierung und reproduzierbare Durchführung von Biofunktionalisierungsprozessen auf SiN/SiO₂-basierten photonisch integrierten Sensorchips eingesetzt werden. Es muss die präzise, schonende und kontaminationsarme Dosierung wässriger, biomolekularer und ausgewählter organischer Medien ermöglichen.

Profilometer

Beschafft wird ein Profilometer für 300mm-Wafer zur Messung von Schichtdicken, Rauheit und Wölbung. Das Gerät muss in der Lage sein, Substratoberflächen von 100mm bis 300mm Wafern sowie quadratische Panels bis 300mm Kantenlänge zu scannen. Die Messung erfolgt mittels einer Nadel mit einstellbaren Kräften und Geschwindigkeiten. Der Lieferumfang umfasst die Installation, Inbetriebnahme und Einweisung am Standort des Fraunhofer IZM in Berlin.