Modular Thin-Film Vacuum Deposition System with Glovebox

Hochvakuum-PVD-Anlage für funktionelle Dünnschichten (Magnetron-Sputtern)

Beschafft wird eine kompakte Hochvakuum-PVD-Anlage für das Magnetron-Sputtern zur Herstellung funktioneller Dünnschichten. Das System muss als vollständig integrierte Tischanlage konzipiert sein und sowohl DC- als auch RF-Sputterprozesse unterstützen. Die Anlage dient der Prozessentwicklung sowie der reproduzierbaren Abscheidung von metallischen, oxidischen und nitridischen Schichten. Zum Lieferumfang gehören neben der Hardware auch die Installation, Inbetriebnahme, Personalschulung und technische Dokumentation.

Kompakte Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage für funktionelle Dünnschichten

Beschafft wird eine kompakte Atomic-Layer-Deposition-Anlage für den Einsatz auf einem Standard-Labortisch. Das System dient der hochpräzisen und reproduzierbaren Abscheidung funktionaler Dünnschichten für Forschungszwecke in der Mikro- und Nanotechnologie. Die Anlage muss für verschiedene Substratarten und komplexe Geometrien geeignet sein. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Inbetriebnahme, Schulung und technische Unterstützung.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

Deposition Tool 8 Inch für UHV Cluster System

Die Technische Universität München (Lehrstuhl für Technische Physik E23/WMI) beschafft ein UHV-Cluster-System für die Herstellung von supraleitenden Schaltkreisen auf 8-Zoll-Wafern. Das System muss UHV-Bedingungen bieten und verschiedene Kammern umfassen, darunter eine HV-Load-Lock-Kammer, eine zentrale Handhabungskammer sowie UHV-Kammern für die Verdampfung von Al-Dünnschichten, das Sputtern von Supraleitern, Oxidation und Ar-Ionenfräsen. Zudem ist eine Wendestation erforderlich. Das System muss die beidseitige Metallisierung der Wafer in situ mit minimaler Partikelkontamination auf der Rückseite ermöglichen, wobei die Wafer nur am Rand berührt werden dürfen.

Plasmawäscher Beschaffung

Beschafft wird ein Plasma-Wäscher (Plasma Abatement) zur Abgasreinigung für ein Halbleiter-Forschungsumfeld. Das System dient der Zersetzung schädlicher Gase, Dämpfe und Partikel aus PECVD- und RIE-Prozessen mittels ionisiertem Gas. Es ist für den Anschluss an zehn Prozesskammern verschiedener Anlagentypen konzipiert. Die Anlage muss spezifische Anforderungen an die Abgasbehandlung, den Medienverbrauch und die Sicherheitsstandards erfüllen.

Beschaffung eines Beschichters für Batterieelektroden

Beschafft wird ein Beschichter zur Fertigung von Batterieelektroden. Die Anlage muss für batterieelektrodenspezifische Materialien geeignet sein und eine kontinuierliche Beschichtung (R2R) ermöglichen. Der Lieferumfang umfasst die Installation, Inbetriebnahme, Dokumentation sowie Schulung des Personals. Zudem sind Service- und Wartungsleistungen sowie spezifische technische Anforderungen an die Beschichtungstechnologie und Anlagensteuerung definiert.

Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Beschafft wird ein teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken zur Verwendung in einem Reinraum der Halbleiterindustrie. Das System muss die Reinigung von 6-, 7- und 9-Zoll-Masken durch austauschbare Chucks ermöglichen. Die Anlage umfasst Funktionen wie Hochdruckreinigung, Megasonic-Reinigung, Bürstenreinigung, N2-Trocknung sowie eine CO2-Wasser-Ionisierung. Zudem sind die Installation, Inbetriebnahme und eine Anwenderschulung für drei Personen gefordert.

Perowskit-Inspektionsanlage

Beschafft wird eine Messtechnikplattform zur Erweiterung des Perovskite-SCALE-Labors. Es handelt sich um eine Perowskit-Inspektionsanlage, die als Bandstrecke konzipiert ist und für die manuelle Beschickung ausgelegt ist. Die Anlage dient der Charakterisierung von Perowskit-Solarzellen-Vorprodukten und -Proben. Das System soll für die spätere Ausstattung mit verschiedenen Inline-Messgeräten vorbereitet sein.

Rasterelektronenmikroskop für Charakterisierung katalytischer Komponenten

Das Fraunhofer-Institut UMSICHT beschafft ein Rasterelektronenmikroskop zur Charakterisierung katalytischer Komponenten sowie zur Strukturuntersuchung von Kohlenstoff- und Metallpulvern. Der Lieferumfang umfasst das Mikroskop inklusive Detektoren, EDX-Messsystem, Software, Ersatzteile sowie die Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme und Personalschulung. Optional können ein STEM-Detektor sowie Funktionen für 3D-Bildaufnahmen und Bildzusammensetzungen beauftragt werden. Die Anlage muss sowohl im Hochvakuum als auch im Niedervakuum betrieben werden können.

Kombigerät Gefriertrocknung und Vakuumkonzentrator

Beschafft wird eine kombinierte Laboranlage bestehend aus einem Rotations-Vakuum-Konzentrator und einer Gefriertrocknungsanlage für den universitären Forschungsbetrieb. Die Geräte müssen gemeinsam über eine zentrale Vakuumpumpe betreibbar sein und zwei spezifische Betriebsmodi unterstützen. Die Anlage ist für den Einsatz im Institut für Tierernährung, Ernährungsschäden und Diätetik der Universität Leipzig vorgesehen. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Lieferung, Montage, Inbetriebnahme, Abnahme sowie eine qualifizierte Bedienerschulung.