Beschaffung Electron Beam Evaporator

Electron Beam Evaporator

Beschafft wird eine Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für das Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik. Das System dient der präzisen Abscheidung dünner Schichten im Hochvakuum für Forschungs- und Entwicklungszwecke. Die Anlage muss als schlüsselfertige Gesamtlösung geliefert, montiert und in Betrieb genommen werden. Zudem ist eine Einweisung des Bedienpersonals erforderlich.

Hochvakuum-Beschichtungsgerät (Sputter- und Kohlenstoff-Coater) für Rasterelektronenmikroskopie

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft ein Hochvakuum-Beschichtungsgerät zur Probenpräparation für die Rasterelektronenmikroskopie. Das Gerät muss als vollautomatisches Tischgerät sowohl Sputter- als auch Kohlenstoffbeschichtungen ermöglichen. Die Lieferung umfasst die Aufstellung, Inbetriebnahme sowie eine Ersteinweisung. Das System muss über ein integriertes, ölfreies Vakuumsystem verfügen und für zukünftige Erweiterungen nachrüstbar sein.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

Kompakt-Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Abbildung und Charakterisierung

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft ein Kompakt-Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Abbildung und Charakterisierung von Nanopartikeln und Nanofasern. Das System muss als betriebsfertiges Komplettgerät inklusive Steuerrechner, Bediensoftware und einem vollautomatischen Vakuum-Pumpsystem geliefert werden. Zu den technischen Mindestanforderungen gehören eine SE-Auflösung von mindestens 4 nm, ein integriertes EDS-System zur Elementanalyse sowie ein motorisierter Probentisch. Die Lieferung umfasst zudem die Aufstellung, Inbetriebnahme, Kalibrierung und eine Ersteinweisung vor Ort. Das Gerät muss eine einfache Bedienung und wartungsarme Instandhaltung gewährleisten.

ALE-Trockenätzanlage für III-V-Halbleiter (Installation, Wartung, Support)

Für die Umsetzung aktueller Forschungs- und Entwicklungsarbeiten wird eine ALE-Trockenätzanlage zur Bearbeitung von III-V-Halbleitern benötigt. Die Anlage soll hochpräzise Ätzprozesse im Nanometerbereich ermöglichen. Neben der Lieferung sind auch Installation, Wartung und Support Teil der Leistung.

Deposition Tool 8 Inch für UHV Cluster System

Die Technische Universität München (Lehrstuhl für Technische Physik E23/WMI) beschafft ein UHV-Cluster-System für die Herstellung von supraleitenden Schaltkreisen auf 8-Zoll-Wafern. Das System muss UHV-Bedingungen bieten und verschiedene Kammern umfassen, darunter eine HV-Load-Lock-Kammer, eine zentrale Handhabungskammer sowie UHV-Kammern für die Verdampfung von Al-Dünnschichten, das Sputtern von Supraleitern, Oxidation und Ar-Ionenfräsen. Zudem ist eine Wendestation erforderlich. Das System muss die beidseitige Metallisierung der Wafer in situ mit minimaler Partikelkontamination auf der Rückseite ermöglichen, wobei die Wafer nur am Rand berührt werden dürfen.

Erneuerung und Erweiterung einer MOVPE-Anlage für III-Nitrid und 2D-Halbleiter

Die Ausschreibung betrifft die Erneuerung und Erweiterung einer bestehenden MOVPE-Anlage (Metallorganische Gasphasenepitaxie) des Herstellers Aixtron für III-Nitrid und 2D-Halbleiter. Der Leistungsumfang umfasst den Austausch spezifischer Komponenten wie der Prozesspumpe, des Showerhead-Gaseinlasses und von Rückschlagventilen. Zudem ist die Anlage um Leitungen für die Quellmaterialien Triethylboran und Ethen zu erweitern, inklusive der notwendigen Anpassungen am Gasversorgungssystem. Die Arbeiten beinhalten die Lieferung, Montage, Integration, Inbetriebnahme sowie eine umfassende Funktionsprüfung der Anlage.

Laserbearbeitungssystem

Beschafft wird ein geschlossenes Laserbearbeitungssystem für Forschungs- und Entwicklungszwecke am Fraunhofer IFAM in Dresden. Das System ist für Schneid-, Markier-, Gravur-, Strukturierungs- und Lasersinter-Aufgaben an metallischen Werkstoffen wie Ni, Fe, Cu und Ag vorgesehen. Es muss eine gepulste Ytterbium-Faserlaserquelle mit einer Leistung zwischen 80 W und 100 W umfassen. Zudem sind eine programmierbare X-/Y-Positionierung, eine Z-Achse sowie eine nutzbare Bearbeitungsfläche von mindestens 400 mm x 400 mm erforderlich. Die Lieferung beinhaltet die Installation, Inbetriebnahme, Dokumentation sowie eine Einweisung des Bedienpersonals.

Tisch-Rasterelektronenmikroskop (Tisch-REM) mit EDX-System

Die Technische Universität Dresden schreibt die Lieferung eines kompakten Rasterelektronenmikroskops (Tisch-REM) aus. Der Lieferumfang beinhaltet neben dem Mikroskop selbst ein vollständig integriertes System zur energiedispersiven Röntgenspektroskopie (EDX) sowie den zugehörigen Steuerrechner, Monitor und die notwendige Software. Zudem sind die Aufstellung, Installation, Inbetriebnahme sowie die Einweisung des Bedienpersonals und die Abnahme des betriebsbereiten Gesamtsystems gefordert. Das Gerät ist für den Einsatz in Forschung und Lehre an der Professur für Fügetechnik und Montage vorgesehen.

Lieferung und Installation einer Cz-Züchtungsanlage für Fluorid-Einkristalle

Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer Cz-Züchtungsanlage für das Züchten von Fluorid-Einkristallen. Das System ermöglicht das Wachstum von Fluorid-Einkristallen aus der Schmelze mittels Ziehverfahren. Es wird in einer Forschungsumgebung eingesetzt und muss hohe Prozessstabilität gewährleisten. Die Anlage soll Kristalle mit einem maximalen Durchmesser von 100 mm und einem Gewicht von bis zu 5 kg herstellen können.