Erneuerung und Erweiterung einer MOVPE-Anlage für III-Nitrid und 2D-Halbleiter

Maskaligner-Anlage (UV-Kontaktlithografiesystem) Lieferung und Installation

Der Auftraggeber sucht nach einem Auftragnehmer für die Lieferung, Installation, Einbringung und Inbetriebnahme einer Maskaligner-Anlage (UV-Kontaktlithografiesystem). Die Anlage dient zur Belichtung von Substraten mit Fotomasken. Die genauen Anforderungen sind im Leistungsverzeichnis beschrieben.

Mechanische Justage optisches Interface

Die Ausschreibung umfasst die Beschaffung eines hochpräzisen, motorisierten 6D-Positioniersystems sowie einer Cantilever-Probecard für die elektrische Kontaktierung. Das 6D-Positioniersystem dient der automatisierten Justage optischer Komponenten wie Fasern und Photonik-Strukturen. Die Probecard ist für den Einsatz in Waferprobern der Firma FormFactor vorgesehen. Beide Komponenten müssen spezifische technische Anforderungen an Präzision, Steuerung und Materialbeschaffenheit erfüllen.

Kompakte Atomic-Layer-Deposition-(ALD)-Anlage für funktionelle Dünnschichten

Beschafft wird eine kompakte Atomic-Layer-Deposition-Anlage für den Einsatz auf einem Standard-Labortisch. Das System dient der hochpräzisen und reproduzierbaren Abscheidung funktionaler Dünnschichten für Forschungszwecke in der Mikro- und Nanotechnologie. Die Anlage muss für verschiedene Substratarten und komplexe Geometrien geeignet sein. Der Lieferumfang umfasst neben der Hardware auch die Inbetriebnahme, Schulung und technische Unterstützung.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

DRIE Ätzanlage für MEMS

Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt die Beschaffung einer DRIE-Ätzanlage für das tiefe Silicium-Ätzen von Wafer-Substraten bis zu einem Durchmesser von 200 mm. Das System soll primär für die Herstellung hochpräziser MEMS-Strukturen auf SOI-Wafern mittels des zyklischen Bosch-Prozesses eingesetzt werden. Zudem dient die Anlage der Erforschung neuer, umweltfreundlicherer Ätzkonzepte und der Entwicklung alternativer Ätzmedien. Die Anlage muss über eine leistungsfähige ICP-Quelle, einen Bias-Generator sowie eine optische Emissionsspektroskopie zur präzisen Prozesssteuerung verfügen.

Lieferung, Errichtung und Inbetriebnahme einer Deponiegasreinigung

Die Ausschreibung betrifft die Lieferung, Errichtung und Inbetriebnahme einer Deponiegasreinigungsanlage für den Zweckverband Abfallbehandlung Kahlenberg. Der Leistungsumfang umfasst die Installation eines Gaskühlwäschers zur Gastrocknung sowie einer Gasreinigungsstufe mittels Aktivkohleadsorbern zur Entfernung von Schwefelwasserstoff, Silizium und flüchtigen organischen Verbindungen (VOCs). Zudem sind die notwendigen Rohrleitungsinstallationen, die Messtechnik sowie die Einbindung in das bestehende System erforderlich. Die Arbeiten beinhalten auch die Werk- und Montageplanung, die Inbetriebnahme, den Probebetrieb sowie die Erstellung der Anlagendokumentation.

Teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Beschafft wird ein teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken zur Verwendung in einem Reinraum der Halbleiterindustrie. Das System muss die Reinigung von 6-, 7- und 9-Zoll-Masken durch austauschbare Chucks ermöglichen. Die Anlage umfasst Funktionen wie Hochdruckreinigung, Megasonic-Reinigung, Bürstenreinigung, N2-Trocknung sowie eine CO2-Wasser-Ionisierung. Zudem sind die Installation, Inbetriebnahme und eine Anwenderschulung für drei Personen gefordert.

Modular Thin-Film Vacuum Deposition System with Glovebox

Beschafft wird ein modulares Dünnschicht-Vakuumbeschichtungssystem mit integrierter Glovebox für die Forschung im Labormaßstab. Das System muss verschiedene Beschichtungstechniken wie Elektronenstrahlverdampfen, thermisches Verdampfen und Magnetronsputtern in zwei unabhängigen Vakuumkammern ermöglichen. Eine automatisierte Probenübergabe zwischen den Kammern sowie ein automatischer Maskenwechsel unter Vakuum sind zwingend erforderlich. Die Integration in ein Glovebox-System mit Inertgasatmosphäre dient der Handhabung von Ausgangsmaterialien und Proben. Das System muss zudem über eine automatisierte Prozesssteuerung und umfangreiche Sicherheitsfunktionen verfügen.

Hauptleittechnik für Elektrotechnische und Verfahrenstechnische Anlagen

Die Ausschreibung betrifft die Erweiterung der Hauptleittechnik für die MVA Weisweiler im Zuge der Errichtung einer neuen KWK-Dampfturbinenanlage. Der Leistungsumfang umfasst die Planung, Lieferung, Projektierung, Parametrierung, Programmierung, Integration, Prüfung, Inbetriebsetzung und Dokumentation der Hard- und Softwarekomponenten. Die bestehenden ABB 800xA- und ABB-Melody-Systeme sind dabei zu erweitern und an die neuen Anlagenkomponenten anzupassen. Ziel ist eine durchgängige Bedienung, Beobachtung, Alarmierung, Archivierung und Diagnose der neuen Anlage über die bestehende Leittechnikplattform.

Ammoniakversorgungssystem für maritime 4-Takt-Motoren

Gegenstand dieser Ausschreibung ist die Beschaffung, der Bau und die Inbetriebnahme eines Ammoniakversorgungssystems für die experimentelle Forschung an maritimen Mehrzylinder-4-Takt-Motoren im Multi-Megawatt-Bereich. Das System besteht im Wesentlichen aus vier Modulen: Ammoniak-Versorgungsmodul, Ammoniak-Minderungssystem, Ammoniak-Verdampfermodul und Ammoniak-Gasventileinheit.