ALE-Trockenätzanlage für III-V-Halbleiter (Installation, Wartung, Support)

Erneuerung und Erweiterung einer MOVPE-Anlage für III-Nitrid und 2D-Halbleiter

Die Ausschreibung betrifft die Erneuerung und Erweiterung einer bestehenden MOVPE-Anlage (Metallorganische Gasphasenepitaxie) des Herstellers Aixtron für III-Nitrid und 2D-Halbleiter. Der Leistungsumfang umfasst den Austausch spezifischer Komponenten wie der Prozesspumpe, des Showerhead-Gaseinlasses und von Rückschlagventilen. Zudem ist die Anlage um Leitungen für die Quellmaterialien Triethylboran und Ethen zu erweitern, inklusive der notwendigen Anpassungen am Gasversorgungssystem. Die Arbeiten beinhalten die Lieferung, Montage, Integration, Inbetriebnahme sowie eine umfassende Funktionsprüfung der Anlage.

Electron Beam Evaporator

Beschafft wird eine Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für das Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik. Das System dient der präzisen Abscheidung dünner Schichten im Hochvakuum für Forschungs- und Entwicklungszwecke. Die Anlage muss als schlüsselfertige Gesamtlösung geliefert, montiert und in Betrieb genommen werden. Zudem ist eine Einweisung des Bedienpersonals erforderlich.

Beschaffung Electron Beam Evaporator

Beschafft wird eine Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für das Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik. Das System dient der präzisen Abscheidung dünner Schichten im Hochvakuum für Forschungs- und Entwicklungszwecke. Die Anlage muss als schlüsselfertige Gesamtlösung geliefert, montiert und in Betrieb genommen werden. Zudem ist eine Einweisung des Bedienpersonals erforderlich.

Auf- und Umrüstung einer Veeco K300 MOVPE-Anlage

Die Technische Universität Braunschweig schreibt die Auf- und Umrüstung einer bestehenden Veeco K300 MOVPE-Anlage aus dem Baujahr 2007 aus. Der Auftrag umfasst ein Steuerungssoftware- und SPS-Upgrade, die Aufrüstung für zwei Hochtemperatur-Metallorganik-Quellenliefersysteme sowie eine Durchfluss-Flanschmodifikation. Ziel ist die Modernisierung der Anlage für die Epitaxie von GaInAlN und die Ermöglichung neuer Prozessanforderungen. Die Arbeiten beinhalten die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme und Einweisung des Personals.

Maskaligner-Anlage (UV-Kontaktlithografiesystem) Lieferung und Installation

Der Auftraggeber sucht nach einem Auftragnehmer für die Lieferung, Installation, Einbringung und Inbetriebnahme einer Maskaligner-Anlage (UV-Kontaktlithografiesystem). Die Anlage dient zur Belichtung von Substraten mit Fotomasken. Die genauen Anforderungen sind im Leistungsverzeichnis beschrieben.

Kompakt-Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Abbildung und Charakterisierung

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft ein Kompakt-Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Abbildung und Charakterisierung von Nanopartikeln und Nanofasern. Das System muss als betriebsfertiges Komplettgerät inklusive Steuerrechner, Bediensoftware und einem vollautomatischen Vakuum-Pumpsystem geliefert werden. Zu den technischen Mindestanforderungen gehören eine SE-Auflösung von mindestens 4 nm, ein integriertes EDS-System zur Elementanalyse sowie ein motorisierter Probentisch. Die Lieferung umfasst zudem die Aufstellung, Inbetriebnahme, Kalibrierung und eine Ersteinweisung vor Ort. Das Gerät muss eine einfache Bedienung und wartungsarme Instandhaltung gewährleisten.

Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD)

Die Universität Heidelberg beschafft ein System für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP). Die Anlage dient der Herstellung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme mit präzise steuerbaren optischen Eigenschaften und Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Das System soll für Forschungsarbeiten zur Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten eingesetzt werden. Der Lieferumfang umfasst neben dem Neugerät auch die betriebsfertige Aufstellung, Inbetriebnahme, Funktionstests sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter.

Deposition Tool 8 Inch für UHV Cluster System

Die Technische Universität München (Lehrstuhl für Technische Physik E23/WMI) beschafft ein UHV-Cluster-System für die Herstellung von supraleitenden Schaltkreisen auf 8-Zoll-Wafern. Das System muss UHV-Bedingungen bieten und verschiedene Kammern umfassen, darunter eine HV-Load-Lock-Kammer, eine zentrale Handhabungskammer sowie UHV-Kammern für die Verdampfung von Al-Dünnschichten, das Sputtern von Supraleitern, Oxidation und Ar-Ionenfräsen. Zudem ist eine Wendestation erforderlich. Das System muss die beidseitige Metallisierung der Wafer in situ mit minimaler Partikelkontamination auf der Rückseite ermöglichen, wobei die Wafer nur am Rand berührt werden dürfen.

Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP) für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft eine chemisch-mechanische Poliermaschine für wissenschaftliche Zwecke. Das Gerät ist für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen, insbesondere Wafern bis 100 Millimeter Durchmesser, vorgesehen. Es muss eine RMS-Rauigkeit von unter 1 Nanometer erreichen und über ein schwingungsgedämpftes Gehäuse verfügen. Zum Lieferumfang gehören die Installation, Inbetriebnahme, eine Vor-Ort-Einweisung sowie die Gewährleistung. Die Beschaffung erfolgt als Gesamtsystem inklusive der notwendigen Steuerungs- und Analysesoftware.

Laserbearbeitungssystem

Beschafft wird ein geschlossenes Laserbearbeitungssystem für Forschungs- und Entwicklungszwecke am Fraunhofer IFAM in Dresden. Das System ist für Schneid-, Markier-, Gravur-, Strukturierungs- und Lasersinter-Aufgaben an metallischen Werkstoffen wie Ni, Fe, Cu und Ag vorgesehen. Es muss eine gepulste Ytterbium-Faserlaserquelle mit einer Leistung zwischen 80 W und 100 W umfassen. Zudem sind eine programmierbare X-/Y-Positionierung, eine Z-Achse sowie eine nutzbare Bearbeitungsfläche von mindestens 400 mm x 400 mm erforderlich. Die Lieferung beinhaltet die Installation, Inbetriebnahme, Dokumentation sowie eine Einweisung des Bedienpersonals.