Lieferung einer Magnetronsputteranlage für Dünnschichtmaterialentwicklung

Auftraggeber

Universität Kassel, vertreten durch die Präsidentin

Kassel

Veröffentlicht

08.10.2026

Angebotsfrist

30.10.2026, 09:00 Uhr

Steckbrief

Magnetronsputteranlage
Dünnschichtmaterialentwicklung
Laborausstattung

Zusammenfassung

Die Universität Kassel beschafft eine automatisierte Mehrtarget-Magnetronsputteranlage für die Dünnschichtmaterialentwicklung. Das System ist für den Einsatz im Reinraum vorgesehen und für die Beschichtung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm ausgelegt. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie die Einweisung des Personals. Zudem sind die notwendige Steuerungs- und Computersoftware sowie eine umfassende Dokumentation und Garantie Bestandteil des Auftrags.

Zeitplan

Bekanntmachung08.10.2026
Heute17.10.2026
Abgabefrist30.10.2026
Veröffentlichungsende30.10.2026

Ausschreibung

Reichweite:National
Vergabeart:Offenes Verfahren
Vergabeverordnung:UVgO
Leistung:Lieferleistungen
Klassifizierung:
Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Erfüllungsort:34109 Kassel, Deutschland

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Auftraggeber

Name

Adresse

Website

—

Kontakt

—

Teilnahme

Abgabeform:Elektronisch

Dokumente

CSX 21 - Bekanntmachung.pdf

Ausschreibung
14 KB

Bekanntmachung einer öffentlichen Ausschreibung (UVgO) für die betriebsbereite Lieferung einer automatisierten Mehrtarget-Magnetronsputteranlage zur Dünnschichtentwicklung an der Universität Kassel.

FAQ

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