Lieferung einer Magnetronsputteranlage für Dünnschichtmaterialentwicklung
Auftraggeber
Universität Kassel, vertreten durch die Präsidentin
Kassel
Veröffentlicht
08.10.2026
Angebotsfrist
30.10.2026, 09:00 Uhr
Steckbrief
Zusammenfassung
Die Universität Kassel beschafft eine automatisierte Mehrtarget-Magnetronsputteranlage für die Dünnschichtmaterialentwicklung. Das System ist für den Einsatz im Reinraum vorgesehen und für die Beschichtung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm ausgelegt. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie die Einweisung des Personals. Zudem sind die notwendige Steuerungs- und Computersoftware sowie eine umfassende Dokumentation und Garantie Bestandteil des Auftrags.
Zeitplan
Ausschreibung
| Reichweite: | National |
|---|---|
| Vergabeart: | Offenes Verfahren |
| Vergabeverordnung: | UVgO |
| Leistung: | Lieferleistungen |
| Klassifizierung: | Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) |
| Erfüllungsort: | 34109 Kassel, Deutschland |
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Auftraggeber
Name
Adresse
Website
Kontakt
Teilnahme
| Abgabeform: | Elektronisch |
|---|
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